光刻机是一种重要的半导体制造设备，用于将电子芯片的图案模式转移到硅片上。市场上主要的光刻机厂商包括荷兰ASML、日本尼康、和台湾的美光科技（原英特尔子公司ASML）。ASML是目前市场上最大的光刻机供应商，其市场份额超过80％。尼康和美光科技则分别占据市场份额的10％左右。值得一提的是，这三家厂商在光刻机技术方面一直处于领先地位，并且不断推出新型产品，以满足不断增长的半导体市场需求。
光刻机压印技术是存在的。光刻机是一种利用光刻胶将图案转移至基板上的工艺技术。它利用光源照射在光刻胶上，通过光刻胶的曝光、显影等步骤，形成所需的图案。
压印技术是一种将图案转移到基板上的方法，它利用压力将图案从模具上转移到基板上。光刻机压印技术结合了光刻和压印两种技术，可以高效、精确地制作微米或纳米尺度的图案，广泛应用于集成电路、光电子器件等领域。